北京污水处理超滤设备工艺流程

 EDI(Electrodeionization)又称连续电除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，那么怎么才能保持EDI超纯水膜堆一直处于稳定运行状态呢?

(1)控制工作电流，一般工作电流低于极限电流。(2)倒换电极，倒换电极可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢往往沉积在浓水室的阴极表面上,倒换电极后，浓水室、淡水室也相应倒换造成水垢的不稳定状态,因而可以减轻结垢，保证EDI超纯水设备正常运行。 4、回收后的电泳漆再应用，可使企业浪费30%的电泳漆置办费，充分节约资源。北京污水处理超滤设备工艺流程

使用酸洗磷化废水设备时注意事项：在一定Al2(SO4)3剂量下小化废水COD值的关键技术是准确掌握调整废水的pH值。如果能适当提高凝固剂的酸度，就能进一步减少药剂的投入量，效果好，成本低。正确控制废水的pH值，废水的Zn2浓度可降低到0.1mg/L以下。因此，从用水量、排放水质的特性来看，将废水的pH值严格控制在8点是很好的控制条件。因此，加入Al2(SO4)3后，用中和剂调节pH值为8.可以有效降低废水中杂质和SS、COD的含量，并在该pH值范围内，方便加入聚丙烯后沉淀的作用，酸洗磷化废水处理达到净化效果，有助于磷化废水达标排放。江苏污水处理超滤设备配件纯水离子交换树脂在长期储存中，或需在停用设备内长期存放，强型树脂（强酸性和强碱性树脂）应转为盐型。

超滤系统(1)澄清池产水池。主要作用是收集澄清池2的来水，进行水量调节与贮存，并通过投加盐酸调节水中pH。其中，澄清池产水池1座，碳钢防腐，尺寸为5.5m×5m×3.5m。配置2台提升泵，1套盐酸加药装置，1台搅拌机，1台pH计。(2)快滤池。主要作用是去除澄清池未能去除的微细颗粒和胶体物质，提高出水水质，使后续反渗透装置免于经常堵塞，并提高它们的处理效率。其中，快滤池2座，碳钢防腐，尺寸为3m×2m×5.5m。每座配置1台浊度仪，1台pH计。

水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

电子行业超纯水设备特点目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。 实际应用中发现，膜表面的化学特性对大分子溶质的截留有着重要的影响。

2.3.卷式超滤装置优点：单位体积内的有效膜面积较大，水在膜表面流动状态比较好，结构紧凑，占地面积较小。缺点：进水预处理要求严格，对所用的膜强度要求较高，使用过程中，一旦发现膜破损须更换新的膜元件。2.4.中空纤维超滤装置单位体积内有效膜面积比较大，工作效率比较高，占地面积小。中空纤维无须支撑物。膜清洗较困难，只能用水力冲洗或化学清洗，不能用机械清洗，另外，膜损坏后要更换整个组件。

超滤过程是在常温下进行，条件温和无成分破坏，因而特别适宜对热敏感的物质，如药物、酶、果汁等的分离、分级、浓缩与富集。 实际中比它要小得多，一般为1—100L/(m2.h)。当超滤透过浓差通量低于1L/(m2.h)时，过程缺乏经济效益。0.5吨超滤设备制造厂家

3、如原水中的有机物含量较高时，可采用加氯、凝聚、澄清过滤等方法处理。北京污水处理超滤设备工艺流程

在电子工业主要是线路板、电子元器件生产都需要使用超纯水设备，这类产品精密度非常高，在生产过程中的重要度也在不断的提升，已经慢慢成为能影响产品生产质量的重要因素。一款好的超纯水设备，能将生产线路板、电子元器件生产过程中直接影响到实验结果和生产结果的金属离子降到很低，使生产品质得到不错的提升。

在晶体管、集成电路生产中，超纯水设备主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水设备清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。 北京污水处理超滤设备工艺流程