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霍尔离子源霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强,霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝(阴极)。霍尔离子源的特点是:1简单耐用。2离子电流与气体流量几乎成比例,可获得较大离子电流。3钨丝一般横跨在出口,收离子束冲击很快会销蚀,尤其对反应气体,一般十几个小时就需更换。并且钨丝还会有一定的污染。为解决钨丝的缺点。有采用较长寿中和器的,如一个小的空心阴极源。霍尔离子源可以说是应用较广的离子源。如Veece的MarkI和MarkII离子源。适用的如国产的大部分离子源。如果镀耐磨装饰膜,膜厚大,需要与机体结合力强,而均匀性要求不高。可用霍尔离子源。其离子电流大,且离子能级也高。如果是镀光学膜,则主要要求离子电流能级集中,离子电流均匀性好。故建议用Kaufman或RF离子源,有条件的可采用ECR(电子回旋)或ICP(感应耦合)离子源。另外,也要考虑到耗材,如用钨丝的霍尔源在反应气体中十来个小时就烧断了。而离子源如ICP离子源可在反应气体中连续工作几百小时。无锡真空镀膜机厂家哪家好?安徽供应真空镀膜机报价
磁控溅射靶是磁控镀膜的源,必须满足两个条件:一是具有正交的电磁场;二是磁场方向应与阴极靶面平行,形成一个封闭的环形水平磁场。从阴极靶面发射的电子被加速以获得阴极暗区的能量。由于阴极靶表面存在水平磁场,它们不能直接飞到阳极上。相反,在环形水平磁场形成的等离子体环中,它们按照近似摆线运动轨迹向前运动,电子运动轨迹加长,从而增加了电子与气体分子碰撞的概率。电子的每一次碰撞都会损失一些能量,只有通过能量交换,电子才能脱离磁场的束缚。在能量交换之前,电子会飞约100米,碰撞频率为107次/s,这将提高气体的电离率和阴极靶所能达到的鸟电流密度,从而获得较高的溅射速率。江西现货真空镀膜机真空镀膜机专业售后服务!
蒸发式真空镀膜机的工作原理:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之知一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。简言之,蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法,把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
真空镀膜机在选择如何选择真空泵时,应注意以下事项:1.真空泵的工作压力必须满足真空设备的极限真空和工作压力要求。2.正确地选择真空泵的工作压力。每种泵都有一定的工作压强范围,3.真空泵在工作压力下,应能排出真空设备工艺过程中产生的全部气体量。4.真空泵的正确组合有选择性吸入,所以有时选择一种泵也不能满足进气要求,必须与几种泵结合,互相补充,才能满足进气要求。钛升华泵对氢气有很高的提取速度,但不能提取氦,三极型溅射离子泵对氩有一定的提取速度,将这两者结合起来,真空装置可以获得更好的真空度。另外,一些真空泵在大气压力下不能正常工作,需要预真空3360的真空泵出口压力低于大气压力,需要泵,因此需要同时使用泵。采购真空镀膜机,当然选无锡光润!
硅+氮气:黑色硅+氧气:混浊白、透明膜硅+甲烷:黄色、绿色、蓝色、黑色(靶材纯度高于99%*能调黑色)钛+氧气:光学膜七彩截色,不多介绍都懂。钛+甲烷:深浅黑色(DLC制备不能达标)钛+氮气:仿金色、黄铜色、紫色、红色钛+氮气+甲烷:仿玫瑰金、黑绿色、复古黄、棕色、紫色钨+氮气:棕黄色钨+甲烷:深浅黑色钨+氧气:紫色,鲜黄色,棕色,蓝色以上*装饰薄膜常用材料及其常用气体,通常甲烷和乙炔都可互替,但涉及部分颜色甲烷效果更好。除以上常用材料外,金属靶材还有镍、铝、钽、铪、锰、铜、锌、铟、锡、等,均有在镀膜中使用。多质靶材如钛铝、铬铝、钛锆、铜锰、镍铬、硅铝、钒铼、钨钼等等。无锡真空镀膜机专业供应商!浙江现货真空镀膜机报价
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磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体,并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电,由辉光放电产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子击出,沉积在塑料基体上。由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多,甚至可发生部分注入现象,同时溅射成膜过程中,基体始终在等离子区中被清洗,因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好,膜层致密、均匀,如配合适当的工件转动,可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合,它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层,使得镀膜层和基体结合力好,不易脱落。由于金属原子的能量低于蒸镀时的能量,即使是耐热性较差的塑料,在其表面也可生成稳定性良好的金属薄膜。安徽供应真空镀膜机报价
无锡光润真空科技有限公司(简称“光润真空”)是从事真空镀膜设备研发、设计、销售、制造、服务于一体的综合性科技公司。
光润真空技术团队具有20多年真空镀膜设备研制和工艺开发的经验,公司开发的GRJR系列、GRDR系列卷绕镀膜设备等在国内处于**水平。公司产品覆盖磁控溅射卷绕镀膜设备、电子束蒸发卷绕镀膜设备、蒸发镀膜**设备、磁控溅射真空镀膜**设备、多弧离子真空镀膜**设备等。
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