福建体视金相研磨抛光机

产品特点：1、小巧的低速自动化精密切割机，适合进行材相工件切割，满足不能承受高速切割产生的热量的小型精密工件。2、高载荷情况下也能保持恒定速度而且电机的设计能够确保您选择的速度即使在高载荷情况下也能保持恒定。3、能够以比较高的准确性设置样品尺寸可以利用千分尺螺丝设置所需的样品宽度，准确度达到+0.01mm，可以根据工件重量**选择切割压力。4、电机配有热过载保护装置。5、切割过程采用自动液体冷却，冷却液不断回流到冷却液水槽中。6、按键操作，操作面板简单直观。7、封闭透明防护罩、安全开关为操作者提供保护。8、配重滑动加载系统，操作更方便灵活，并能**小化样品损害9、闭环控制切割，防止过载烧坏电机、电路等。10、样品切割完成能自动停止。11、使用进口金刚石效果比较好。金相自动切割机哪种好。福建体视金相研磨抛光机

透反射正置金相显微镜OC-40MRT一、介绍OC-40MRT透反射正置金相显微镜根据市场需求重新优化配置整体性能，以优异的成像性能，舒适的操作体验，为客户提供高性价比的金相分析及工业检测解决方案。二、用途1、观察筒采用新生儿睡床比较好舒适角度（30°）的观察筒，能够缓解用户在长时间工作状态下的紧张与疲劳，保证比较好观察状态。观察筒上的刻度，方便用户自行调节比较好瞳距范围。2、落射照明器采用柯拉照明系统，带视场光阑、孔径光阑和斜照明装置；预设起偏镜、检偏镜与滤**插槽。单颗5WLED暖白光照明（3000-3300K），与同类LED照明相比，能很大程度降低观察者的视觉疲劳。视场光阑与孔径光阑采用拉杆装置，中心可调,能灵活调节照明范围的大小，有效避免杂光对图像的影响。起偏镜与检偏镜可实现简易偏光观察，您也可根据需求，选择不同颜色的滤**获得理想的观察效果。3、工具存放装置M4直柄内六角扳手随机存放，充分利用了机身的可用空间，触手可及的工具使您的操作更加便捷。4、随机限位装置可有效防止样品与物镜碰触，避免损伤。采用RX50M***的聚光系统，数值孔径更大，亮度更高，大幅提升透射光通过率。天津智能自动金相试样抛光机自助金相切割机 生产厂家。

二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um

冷镶嵌用模一、用途冷镶嵌用模配合冷镶嵌料使用，根据不同直径和不同形状，选择适用模具进行镶嵌。一次性用模此产品主要使用在PCB厂做金相切片分析时起承载切片的作用,特点是透明度高,美观实用,节省冷镶嵌料。大镶嵌模满足镶嵌大样品的需要，小镶嵌模节约冷镶嵌料，共有4种形状规格。二、规格参数1、FMM1冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ20内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；2、FMM2冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ25内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；3、FMM3冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ30内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；4、FMM4冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ40内高：21mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；金相切割片 LED灯照明。

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              金相全自动磨抛机手动调压。山东双盘金相振动抛光机

金相试样磨抛机 四档定速。福建体视金相研磨抛光机

低倍组织热酸蚀装置HSC-2000产品特点：1、采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程，独特的PID温度控制计算方法，消除了低倍组织制样过程的不确定性，提高低倍组织制样的重复性。2、触摸屏操控显示，简单直观。3、控制单元和酸蚀槽工作分开设计，增加控制单元工作寿命。4、酸蚀槽采用特殊材料制作，耐酸耐高温，封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。5、采用三层样品隔离放置方式，样品取放方便且增加了工作空间，改善了腐蚀***性。6、有排液阀门，方便排放腐蚀废液。7、样品托盘可完全取出，清洗容易。8、紧凑的酸蚀槽，完全可与抽风柜配合使用，增加工作环境的舒适性。9、尺寸多样性，完全可以按照客户要求定制。福建体视金相研磨抛光机